Hizmetlerimiz

VAKUM SEMENTASYON

VAKUM SEMENTASYON

Düşük basınçlı vakum sementasyon işlemi prensip olarak 900-1000 °C’de < 20mbar’dan düşük basınçta Asetilen gazı ile yapılır. Bu prosesin amacı ve metalografik avantajları şöyledir;

- Asetilen gazının sahip olduğu yüksek %C konsantrasyonu ve DualTherm® patentli prosesi ile kısa proses süreleri birincil avantajıdır.

- Gaz sementasyon proseslerinde görülen yüzey oksidasyo-nu kesinlikle oluşmamaktadır.

- Homojen sementasyon tabakası derinliği.

- Yüksek sıcaklarda sementasyon imkanı. (Malzeme cinsine, istenilen sementasyon derinliği ve sertliğine bağlı olarak

1000°C’ye kadar özel proses oluşturabilme imkanı.)

Metalografik üstünlüklerini:

Gaz sementasyon proseslerinde oluşan yüzey oksidasyo-nu ve uzun işlem süreleri malzemelerin bazı mekanik özelliklerini olumsuz yönde etkilemektedir.

- Vakum sementasyonda oksidasyon tabakasının oluşmaması; yüzeyde homojen sertlik dağılımı imkânını sağlar.

(Gaz sementasyonda sertlik önce düşük daha sonra artarak ve düşerek devam eder çünkü yüzey oksidasyonu homojen sertlik dağılımını etkiler.)

- Vakum sementasyon sonrası yorulma mukavemet değerleri malzemenin karakteristik yapısına göre maksimum seviyede kalır (Gaz sementasyonda oluşan oksidasyon tabakası yorulma mukavemetini düşürür).

- Vakum sementasyonda homojen sementasyon tabakası mekanik işleme maliyetlerinizin azalmasına yardımcı olur.

- Gaz sementasyonda 950°C’de 16MnCr5 malzeme için 0,8mm sementasyon tabakası referans alındığında; ortalama proses süresi 8-10 saat civarındadır. Bu proses süresi Düşük

Basınçlı Vakum Sementasyonda 4-5 saat arasındadır. Bu süre farklılıkları gaz sementasyona göre daha az tane büyümesi, tane sınırı karbür çökelmelerinin daha az olması başta olmak üzere, kalıntı östenit miktarının daha az oluşmasına kadar pek çok metalografik avantajları beraberinde getirmektedir. Bu da uygulamalarınızda seçmiş olduğunuz malzemenin mekanik mukavemet değerlerini hesaplamalarınıza uygun olarak oluşmasına yardımcı olmaktadır.

Düşük basınçlı vakum sementasyon prensibinde gaz sementasyonun aksine proses gazı ortama fasılalı olarak verilir ve difüzyon süreci her gaz akışının devamında beklenir. Bu da %C konsantrasyonunun yüzeyde yoğunlaşmasını önleyerek sementasyon derinliğinin oluşumunu ve %C’nun iç yapıya difüzyonuna olanak kılar.

Yüzeyde aşırı karbon konsantrasyonu kalıntı östenit oranını artırdığı gibi tane sınırlarına karbürlerin çökelmesine olanak sağlar ve malzemenin yorulma, aşınma ve tokluk mukavemetlerini olumsuz yönde etkiler.

Vakum Yağda Sertleştirme

Yağda sertleştirme işlemini yüzeyde oksit oluşumu

veya dekarbürizasyon oluşumlarının engellenmesi için tamamen bilgisayar kontrollü olarak ALD DualTherm marka vakum fırınında yapılmaktadır. Bu fırında ısı homojenliğini kontrol etmek için azot atmosferli konvektif ısıtma bulunmaktadır. Ayrıca

ALD firmasının geliştirmiş olduğu “ dynamic quenching ®”metodu ile soğutma parametreleri tamamen kontrol edile bilmekte olup yüksek mekanik mukavemet değerleri daha düşük çarpılmalarla sağlanmaktadır.

• Yağda sertleşebilen çeliklere örnekler:

- 1.2080, 1.2842, 100Cr6, 1.2550, 1.2210, 1.2714, 1.2738, SAE 4140, vb.

Sementasyon

Sementasyon bir kimyasal yüzey işlemidir. Düşük alaşımlı çeliklerinde, sementasyon çeliklerinde ve karbon çeliklerinde karbonun yüzey difüzyonuyla sağlanır.

Aşınma dayanımı yüksek sert bir yüzey tabakası ve tok,yumuşak bir çekirdek elde edilmesiyle sementasyon işlemi sonuçlanır. Bu işlem de yüksek teknoloji ALD DualTherm fırını ile yapılmaktadır. Bu proseste karbon konsantrasyonu asetilen gazı ile sağlanmaktadır. Genel olarak sementasyonla sertleştirilebilen çelikler:

• 8620, 1.7131, 14NiCr14, 16MnCr5, vb.

Karbonitrasyon

Karbonitrasyon bir kimyasal yüzey işlemi olup sementasyona benzer. Düşük alaşımlı çeliklerde ve karbon çeliklerinde azot ve karbonun yüzey difüzyonuyla

sağlanır. Aşınma dayanımı yüksek sert bir yüzey tabakası ve tok, yumuşak bir çekirdek elde edilmesiyle karbonitrasyon işlemi sonuçlanır. Biz bu işlemi yüksek teknoloji

ALD DualTherm fırını ile yapılmaktadır.